제품안내

CFD PrePost

CFD PrePost 제품문의

격자 생성은 시뮬레이션에서 매우 중요한 부분을 차지합니다.

지나치게 많은 격자는 많은 계산 시간을 요구하고, 너무 적은 격자는 정확하지 못한 결과를 가져올 수 있습니다. Ansys는 Ansys Meshing을 필두로 ICEM CFD, Fluent Meshing 등의 Meshing Tool 을 제공하고 있습니다. 사용자는 해석 특성에 맞게 해당 프로그램을 사용하여 원하는 모든 격자를 생성할 수 있습니다.

Ansys Meshing

Workbench Meshing은 Ansys의 다양한 격자생성 알고리즘을 하나의 작업 환경에 모아놓은 강력한 Meshing Tool이라 할 수 있습니다. 구조, 유동, 전자기장 해석에서 요구되는 격자 특성은 다를 수 있으며, Ansys Meshing에서는 이에 대한 선택 옵션이 있습니다. 선택 옵션으로 해석에서 요구되는 적합한 격자 생성이 가능하며, 병렬 코어를 이용하여 더욱 빠르게 격자를 생성 할 수 있습니다.

구조/유동 해석-전처리 기능(격자)

자동 격자 생성, 접촉/공유 면 정의(Share Topology)

  • 전문적인 지식이 필요한 격자 생성 작업을 자동으로 진행 합니다.
  • 3차원 CAD에서 읽어 들인 어셈블리 모델의 접촉 영역/공유면 영역도 자동 설정됩니다.
  • 부품수가 많은 대규모 모델에서 유용합니다.
  • AMP로 생성한 격자

대규모 어셈블리 모델의 자동 접촉/공유 면 정의

  • 대규모 어셈블리에서 수작업으로 접촉/공유면 정의를 하는 것은 많은 시간이 걸리고 작업실수를 초래하기 쉬우나, Ansys Workbench는 접촉/공유 면을 자동으로 정의하고 격자도 자동생성 합니다.
  • 설계자가 모델링 한 형상을 그대로 해석하여 설계평가를 하는 것이 가능합니다.

물리환경에 근거한 격자 분할

해석하고자 하는 물리계 타입을 지정하면 해석분야에 가장 적합한 격자 분할기법이 설정됩니다.

  • 물리환경에 근거한 격자 분할

형상 간략화

격자 사이즈를 작아지게 하는 미소한 부분(feature)을 제거하고 모델의 topology를 수정합니다.

shell 요소, beam 요소의 생성

문제를 단순화해 접근하는 경우에는 shell과 beam의 격자 생성이 요구될 수 있습니다. 이러한 타입의 격자에 대해서도 양질의 격자를 신속하게 작업할 수 있습니다.

  • shell 요소, beam 요소의 생성

다양한 격자 종류에 대응

Tetra, Hexa, Prism, Pyramid, sweep , layer , hexa dominant , multi zone 격자를 만들 수 있습니다.

  • Tetrahedral Mesh

  • Sweep Meshing

  • Automatic(Tetra hedral&Sweep)

  • Multizone Meshing

  • Assembly Cut Cell Meshing

크기 조절

점, 선, 면, 지정된 영역 내의 격자 크기를 지정할 수 있습니다.

Adaptive 격자(H법)

격자를 점점 조밀하게 하면서 반복계산을 하여 결과의 정확성을 높일 수 있습니다.

격자 변환, 체크 기능

Third Party Tool에서 작성한 유한요소 모델의 변환, Ansys Mechanical APDL(이전의 Classic)환경은 물론 NASTRAN, ABAQUS에서 작성한 유한요소 모델을 Import하여 Ansys Workbench용으로 변환해 줍니다. Workbench에서 작성한 유한요소 모델을 Export하는 것도 가능합니다.

격자 파라메터

파라메터 기능으로 격자의 case study 가 가능합니다.

격자 Morphing에 의한 형상 변경

Morphing 기능을 사용하여 기하형상을 변경하면 격자 형상이 변경됩니다.

격자 품질 검토 툴

Aspect Ratio, Orthogonal, Skew Angle 등을 기준으로 격자 품질을 체크할 수 있습니다.

  • 격자품질

Ansys ICEM CFD

  • 사진사는 상황에 따라 자동 카메라와 DSLR카메라가 필요하듯이 해석자에게는 자동 Mesh와 세밀한 Control가능한 Mesh생성 Solution이 필요합니다.
    ICEMCFD은 이 모든 상황에 유연한 작업 환경을 제공하여 줍니다.
  • 해석자라면 한번쯤은 Mesh생성 작업에 많은 시간을 투여 하여도 원하는 Mesh를 얻지 못해서 어려움 겪었던 적이 있었을 것입니다.
    ICEMCFD는 어떠한 환경에서라도 해석자가 원하는 Mesh를 제공 해 줄 수 있는 쉬우면서도, 전문적인 Preprocess도구 입니다.
  • Robust : 난해한 형상에 대해서도 우수한 품질의 Mesh
  • Flexible : 다양한 작업 환경 제공

주요기능

  • Mesh 생성, Mesh 최적화와 주요 CAD 시스템에서 직접 파라메트릭 형상 제작과 Post-processing 모듈이 ICEM CFD에서 가능.
  • CAD Interface를 통해 직접적으로 Ansys ICEM CFD Meshing 과 CAD 시스템을 연결.

[ CATIA ]
[ Pro/Engineer ]
[ I-DEAS ]
[ SolidWorks ]
[ Unigraphics ]
[ Etc ]

CAD & STL 데이터 수정기능

1. ICEM Mesh editor는 Surface의 연결 정보를 구축할 수 있고 meshing에 문제를 일으킬 수 있는 구멍이나 틈새를 찾기 위해 사용함.

01. 불완전한 B-spline 데이터를 자동으로 수정하거나 bounding boxes, baffles 등을 생성

02. Surface 연장, midsurfacing 등의 작업으로 geometry 수정작업 가능

메시 생성의 편리하고 강력한 기능제공

01. 복잡한 형상에 대한 tetra 요소 생성 용이.

02. 중요한 형상의 변화를 정확히 반영/다양한 mesh size 제어기능.

03. 다양한 tetra volume mesh 생성 알고리즘

04. Octree (Robust) : patch independent

05. Delaunay ( Quick) : existing surface mesh, uniform transition

06. Advancing Front (Smooth) : delivers required mesh quality

  • 조각난 표면, 면사이 틈새, 구멍 및 중복 (패치 독립)를 포함한 불완전 CAD 데이터의에 대한 격자생성.
  • Smoothing, coarsening, refinement, element 타입변경 및 환, 선형 또는 이차원요소 지원.
  • 100 개 이상의 CFD / CAE 솔버로 출력가능
  • 유동해석과 구조해석 연계해석 가능한 모델링
  • 자동스크립트 생성기능을 통한 배치메시 기능.

Direct CAD Interfaces

ICEM CFD를 활용에 있어서 작업시간 향상의 핵심 요소는 다이렉트 CAD 인터페이스 기능 때문입니다. CATIA, PRO / ENGINEER 및 유니 그래픽스, 솔리드 웍스, 솔리드 엣지와 같은 CAD 파일들을 별도의 변환 없이 바로 불러올 수 있습니다. (IGES, ACIS, Parasolid를, DWG / DXF, IDI파일 STL, VRML 데이터도 또한 Import가 가능) 가능합니다

ICEM CFD Add-in for Workbench

  • CAD인터페이스, Mesh, STL data를 DesingModeler와 연결
  • 다음 단계인 Fluent, CFX, Polyflow, APDL등의 솔버와 연결
  • DesignXplorer그밖의솔버에서 최적화를 하기 위한 매개변수와 연결이 가능

Ansys ICEM CFD Hexa CAA V5: CATIA V5 내에서 Hexa volume mesh 생성

  • Top-Down 혹은 Bottom-up 방식의 blocking 방법 제공.
  • 유사한 형상에 대한 동일한 격자의 재사용 가능(parametric study)
  • O-type block 생성 기능이 자동화 되어 있으며, 고품질 HEXA mesh 가능

Fluent Meshing

Fluent Meshing는 막강한 Meshing Algorithm과 가벼운 GUI를 바탕으로 복잡한 형상에 대하여 대용량 격자생성 시에 매우 큰 강점을 지니고 있습니다.
특히, Prism layer생성 시 다양한 Option을 사용할 수 있기 때문에 양질의 격자를 생성할 수 있습니다. 또한, 다양한 격자 생성 방법을 지원하면서 Wrapping과 Cutcell을 이용할 경우 pre-processing작업에 소요되는 시간을 획기적으로 줄일 수 있습니다.
FLUENT 14.5 버전 이전까지는 TGRID라는 이름으로 별도의 모듈로 구성되었으나 이후 버전 부터 지금의 Fluent Meshing이라는 이름으로 변경되어 자체적으로 내장 되어있으며 Fluent 라이선스가 있다면 별도의 비용 없이 곧바로 사용하실 수 있습니다.

CAD Import 기능

Fluent 14.5의 Fluent Meshing에서는 Geometry를 직접 불러올 수 있습니다. 하지만 Fluent Meshing에서는 Geom Kernel 대신 Mesh파일을 이용하기 때문에 상용 CAD 파일을 직접 읽기 위해서는 Geometry Reader 라이선스나 Geometry Interface 라이선스가 필요합니다.
CAD 파일을 불러 올 때는 2가지 방식이 있습니다. 첫 번째 방식인 Tessellation Refinement방식은STL 형식으로 Geometry를 변환하여 읽게 되고 Wrapping이나 Remesh 기능을 이용하여 표면 격자 재생성 시 사용할 수 있습니다. 두 번째 방식인 Conformal Tessellation으로 읽어 오게 되면 Conformal Mesh 형태로 표면 격자를 생성하기 때문에 CAD Import 후 즉시 볼륨 메쉬를 생성할 수 있습니다.

  • Tessellation Refinement

  • Conformal Tessellation

Fluent Meshing에서 지원되는 형식
Ansys WB formatsagdb, meshdat, mechdat
Ansys legacy formatstin(ICEMCFD), dbs(Gambit)
Standard/Free CAD formatsIges, STEP, ACIS, Parasolid
Spaceclaim filesscdoc
Licensed readersAutodesk Inventor, CATIA V4, V5, Creo Parametric, JT Open, NX, SolidWorks
Plug-insAutodesk Inventor, CATIA V5, Solid Edge, Creo Parametric, JT Open, NX, SolidWorks

Wrapping

Ansys FLUENT 14.5의 Fluent Meshing에서 제공하는 2가지 방식의 wrapping 기능은 사용자의 상황에 맞게 Wrapping할 수 있습니다.
Low Recovery은 작은 형상을 무시하고 구멍과 같은 문제가 있는 형상을 메꾸어 Volume을 만들 수 있도록 도와줍니다. High Recovery 은 톱니바퀴와 같이 작은 형상을 유지하며 Wrapping을 수행하게 되어 원본의 형상을 최대한 유지하며 격자를 생성할 수 있으며 Baffle과 같은 두께가 없는 형상까지 구현이 가능합니다.

  • Low Recovery

  • High Recovery

CAD 수정 및 정리

원통형태나 평면과 같은 형상을 Fluent Meshing에서 생성할 수 있어 입출구면을 쉽게 생성 하거나 사용자가 원하는 형상을 만들 수 있는 기능을 제공합니다.
매우 복잡한 임의의 형상 이외에 일반적인 형상에 대해서는 별도의 모델링 S/W를 거치지 않고 유동 공간에 대한 격자를 생성할 수 있도록 해줍니다.
또한 서로 떨어진 Face를 붙이거나 불필요한 두께를 가지고 있는 형상은 Mid-surface를 생성할 수 있습니다.

  • Fluent Meshing의 Cylinder와 Caps기능

  • Fluent Meshing의 Remove Gaps 기능

Remesh(sew)

STL 과 같은 Mesh나 중첩된 면을 가지고 있는 Surface를 이용하여 격자를 생성하는 경우 Fluent Meshing의 SEW 기능을 이용하면 손쉽게 Surface Mesh를 Remeshing 할 수 있습니다. 또한, Proximity 와 Curvature를 사용자가 설정하여 곡률을 자세히 살리거나 좁은 틈새의 격자를 늘려 볼륨격자의 품질을 향상시킬 수 있도록 해줍니다.

  • Fluent Meshing의 SEW(remeshing)기능

Volume Impove

Fluent Meshing(T-Grid)에서는 생성된 격자의 품질을 향상시키기 위해서 Auto Node Move 와 같은 기능들을 사용하여 품질을 향상시킬 수 있습니다.

Script

Fluent Meshing(T-Grid)의 대부분의 기능은 Text Command를 이용하여 Script화 할 수 있으며, 반복되는 작업에서 사용자의 편의를 향상시킵니다.

과거에는 CAE 분야의 전처리 과정에 대한 사람들의 인식은 해석 모델의 수정을 위해 사용자가 직접 눈으로 확인하고 작업해야 하며 많은 반복 작업을 거치는 지루하고 힘든 작업이라는 인식이 많았습니다. 최근에는 엔지니어의 작업을 줄이고 되도록 자동화 기능들을 이용하여 신속하게 격자를 생성하는 방향으로 발전하고 있습니다.
Fluent Meshing에서는 모델 Repair 과정에 대한 자동화 기능을 다양하게 제공하고 있기 때문에 편리하고 빠르게 완성된 격자를 얻을 수 있습니다.
또한, 매우 복잡한 모델의 경우, 자동화 기능만으로 전체 모델을 수정하고 격자를 생성하다 보면 사용자의 의도와는 다르게 형상이 뭉개지거나 유실되는 경우가 발생할 수도 있기 때문에 Fluent Meshing에서는 필요에 따라서 자동화 기능이 제안하는 형상 수정안을 사용자가 검토한 후 적용할 수 있도록 준 자동화 기능도 지원하고 있습니다.

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교육상세내용
Workbench Mechanical DesignModeler

SI/PI/EMI 기초 교육

본 교육은 ANSYS SIwave와 HFSS를 이용한 SI/PI/EMI 해석 기초이론 교육입니다. 특히 전기전자 분야를 전공하지 않은 비전공자를 대상으로 전기전자 및 일반 산업 기기 전반에 걸쳐 주요관심사로 대두되고 있는 SI/PI/EMI에 대하여  쉽게 이해하고 접근할 수 있도록 구성하였습니다.
주요 내용으로 전자기학 기초, 전자부품 기초 및 SI/PI/EMI 기초로 구성 되어 있습니다. 본 과정을 수료함으로써 현업에서의 SI/PI/EMI에 대한 이해에 도움이 될 것입니다.

#일시: 2016년 9월 27일(화) 10:00~17:00
#강사: 태성에스엔이 김지원 부장 / 
#교육비: 무상

10:00~11:30 : 전기전자 기초 교육
- SI/PI/EMI 이해를 돕기 위한 기초 이론 교육
- 전자기학 기초
- 전자부품 기초

11:40~13:00 : SI/PI 기초 이론
- Signal Integrity 기초
- Power Integrity 기초 
13:00~14:00 : 점심 식사
14:00~15:30 : EMI 기초 이론
- EMI/EMC 기초 이론 교육
- EMI/EMC 적용 사례 분석

15:40~17:00 : ANSYS SI/PI/EMI 해석 Solution Q&A

본 교육은 ANSYS SIwave와 HFSS를 이용한 SI/PI/EMI 해석 기초이론 교육입니다. 특히 전기전자 분야를 전공하지 않은 비전공자를 대상으로 전기전자 및 일반 산업 기기 전반에 걸쳐 주요관심사로 대두되고 있는 SI/PI/EMI에 대하여  쉽게 이해하고 접근할 수 있도록 구성하였습니다.
주요 내용으로 전자기학 기초, 전자부품 기초 및 SI/PI/EMI 기초로 구성 되어 있습니다. 본 과정을 수료함으로써 현업에서의 SI/PI/EMI에 대한 이해에 도움이 될 것입니다.

#일시: 2016년 9월 27일(화) 10:00~17:00
#강사: 태성에스엔이 김지원 부장 / 
#교육비: 무상

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- SI/PI/EMI 이해를 돕기 위한 기초 이론 교육
- 전자기학 기초
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11:40~13:00 : SI/PI 기초 이론
- Signal Integrity 기초
- Power Integrity 기초 
13:00~14:00 : 점심 식사
14:00~15:30 : EMI 기초 이론
- EMI/EMC 기초 이론 교육
- EMI/EMC 적용 사례 분석

15:40~17:00 : ANSYS SI/PI/EMI 해석 Solution Q&A

본 교육은 ANSYS SIwave와 HFSS를 이용한 SI/PI/EMI 해석 기초이론 교육입니다. 특히 전기전자 분야를 전공하지 않은 비전공자를 대상으로 전기전자 및 일반 산업 기기 전반에 걸쳐 주요관심사로 대두되고 있는 SI/PI/EMI에 대하여  쉽게 이해하고 접근할 수 있도록 구성하였습니다.
주요 내용으로 전자기학 기초, 전자부품 기초 및 SI/PI/EMI 기초로 구성 되어 있습니다. 본 과정을 수료함으로써 현업에서의 SI/PI/EMI에 대한 이해에 도움이 될 것입니다.

#일시: 2016년 9월 27일(화) 10:00~17:00
#강사: 태성에스엔이 김지원 부장 / 
#교육비: 무상

10:00~11:30 : 전기전자 기초 교육
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11:40~13:00 : SI/PI 기초 이론
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